从光子芯片到量子芯片，华为的野心不仅于此，如今华为还瞄准了最难攻克的堡垒——光刻机。
据据日前SeenPat新专利公开消息显示，华为一项新专利公开，提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光固定的干涉图样而无法匀光的问题。专利名称为“反射镜、光刻装置及其控制方法”，专利申请号为CN202110524685.X。
从介绍中可以看出，该专利提供了一种光刻装置，该光刻装置包括相干光源、反射镜(也可以称为去相干镜)、照明系统。
其中，反射镜可以在光刻装置中设置旋转装置，在该光刻装置中，相干光源发出的光线经旋转的反射镜的反射后，通过照明系统分割为多个子光束并投射至掩膜版上，以进行光刻。
在光刻装置中，上述照明系统作为重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明(匀光)、控制曝光剂量和实现离轴照明等，以提高光刻分辨率和增大焦深。该光刻装置通过不断改变相干光形成的干涉图样，使得照明视场在曝光时间内的积累光强均匀化，从而达到匀光的目的，继而也就解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。
从这项专利上，我们看到华为在光刻机研发层面正在投入与突破，华为可能要亲自下场做光刻机了。
问题来了， 华为为何会考虑亲自去研发光刻机技术，成功可能性多大？
华为或许比任何公司更有做光刻机的需求与紧迫感
从目前来看，华为到底是要亲自去下场做光刻机还是去尝试攻克相关技术专利，与产业链合作推进光刻机的研发进展，暂时还不明确。
在笔者看来，在被制裁的两年内，华为可能还在等待美国解禁，抱有一定的幻想，但从目前来看，华为已经放弃了幻想，终于认清了美国对华为进行全面的产业链制裁的决心是非常大的，华为不再抱有希望。
如果要生存，如果手机业务想要有更进一步的发展，自主攻克光刻机这个几乎不可能完成的项目，就是摆在华为面前所需要解决的问题。
从目前来看，国内企业和各科研单位对光刻机、EDA软件、光刻机胶等设备和材料进行了攻克，上海微电子于今年通过了28纳米光刻机的技术检测和认证，28纳米已经算的上是中端光刻机了，目前已处于量产阶段。据悉上海微电子将在明年向国内芯片制造企业交付28nm光刻机。
从目前来看，华为并没有把希望完全寄托在上海微电子光刻机项目上，而是自己也亲自下场去攻关了，对于华为来说，目前没有太多时间去等待了。上海微电子虽然28纳米节点的光刻机是预计明年交付，但具体是否能如期交付、是否能量产28nm也不能确定。
从目前来看，华为或许对上海微电子的研发进度并不满意，毕竟，对于上海微电子而言，光刻机的研发需要考虑投入产出以及利润等系列问题，而对于华为而言，是关乎生存。华为亲自下场推进，其效果与效率可能会更快。
其实很早之前，不少业内人士就在呼吁华为自己去攻克光刻机的难题。因为光刻机是华为最核心的卡脖子项目，解决自己的燃眉之急，华为比任何其他公司和机构都更有紧迫感。
很早之前就有业内人士质疑，上海微电子装备公司十年的研发投入仅仅6亿，如此少的研发投入只能说明技术研发的难度和深度都很小，那项目积累的技术就非常少。
因此，这可能是华为要亲自下场去发力光刻机技术研发的核心焦虑点。从华为自身来看，华为本身就已经拥有大量数学、物理、材料科学的各方面人才，其人才储备很大，加上华为在科研项目管理方面的经验方面，亲自下场也有它本身的优势。
尤其上海微电子是做产业集成，不是自己做双工台、光刻胶、检测仪器，它也需要产业链企业给它供货，华为的集成能力或许要强于上海微电子，能供货给上海微电子的国内企业，同样能供货给华为。
此外，华为有光芯片，射频等很多硬件的经验，产业链的完整性让华为对硬件有更强的理解力，对光刻机的制造有更强的产业链协调力与技术理解力，华为的利润以及能够投入的资金也要远高于上海微电子。其亲自下场，人才招募的力度、项目推进的进度与速度都要更快。
从当前的国内形势来看，光刻机的人才、技术与产业研发氛围要更好，尤其是在美国的芯片禁令之下，国内市场环境氛围正在起来。
而技术创新是由市场需求推动，现在中国庞大的半导体市场需求摆在这里，市场需求必然会驱动技术创新去逐步攻克光刻机技术，这个是时间问题，在政策的大力扶持下，明眼人早已经看出变化与风向，国内的光刻机厂家当前的人才、市场、利润相比以前均有很大提升。
在光刻机领域，光源、镜头、光刻胶被称为光刻机三大核心组件，其中光源系统是重中之重，华为也已经在产业链层面投入。
据消息显示，华为旗下的哈勃科技早前已经入股了光刻机核心零部件企业北京科益虹源光电技术有限公司，这家公司三大核心技术之一的光源系统，是国内第一、全球第三的193nm ArF准分子激光器企业，根据相关报道，2018年科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器出货，打破了国外厂商的长期垄断。
自主研发光刻机到底有多难？华为成功可能性多大？
光刻机难度这个业内均知。
目前荷兰ASML的光刻机是集合了全球顶尖公司的产品，一台光刻机有10万多个零件，涉及的每一步都需要最先进的工艺与零件。ASML公司的EUV光刻机，需要顶级的镜头和光源以及极致的机械精度与复合材料，光源采用美国的Cymer，透镜是德国的蔡司，复合材料是来自日本等等。光刻机的激光，镜头，双工台，都是精密仪器的顶尖水平。
从5G和人工智能技术的发展角度5G智能终端、虚拟现实、可穿戴设备、区块链、人工智能等产品方面，对7纳米以下的芯片市场需求越来越大。
市场需求摆在这里，产业链就有足够的动力，而华为恰恰又一定的产业链号召力，现有的国产替代的产业集群也正在起来。包括科技公司，还有科研院所，高等院校，知识产权方面的专业机构等等。
从国内产业链公司方面，做光刻机核心组件的公司已经基本成型，做集成的有上海微电子、做光源系统的有科益虹源，做物镜系统有国望光学，做曝光光学系统的有国科精密，做双工作台的有华卓精科，做浸没系统的有启尔机电等，以及包括光刻胶，光刻气体，光掩模版，光刻机缺陷检测设备，涂胶显影设备等，都有相关的公司与产业分布。
从光刻机难题来看，要解决的核心问题是光源、透镜与光刻胶、双工台等核心组件。从目前国内来看，上海光源或者北京科益虹源光电技术有限公司加上华为的匀光解决方案，光源问题或已能解决。双工作台、光刻胶等国内厂商都有了，难点正在一点点攻克。
整体来看，做光刻机难度很大，一家公司肯定不行，核心关键是需要有一家领头羊厂商来快速整合市场，带动整个产业链的进步，把国产替代的产业链做大做强，补齐短板。
从目前来看，华为是适合做光刻机的领头羊公司，毕竟，华为有技术，有品牌号召力，也是真正的理解自己的需求，第三方光刻机集成厂商对厂商的需求理解未必有华为深。而华为本身的硬件技术与人才整合能力，能够帮助部分供应商去实现技术的突破。
华为的加入，也给上海微电子施加了一定的压力，毕竟，在光刻机集成领域，全国只有其一家，没有竞争，专项和补贴必然会落在其头上，但华为加入之后，上海微电子有了压力，在光刻机上的投入与突破效率可能要更高。
整体来看，华为即便是不是自研光刻机，但掌控一些光刻机关键技术，分享到国内产业链，促成国内产业链一体化加速推进，也未尝不是一件好事，国内光刻机产业链公司与国外领先企业的差距还很大，这是难题，但国产替代的诉求比以往任何时刻都要更强烈。
走自主技术路线、关键技术自主掌控已经成为共识，尤其是国内半导体的市场规模很大，市场需求会带动人才与资金的流入，逐步把差距缩短。
参考中国过去的光伏产业，在限制之下，二十年过去了，现在国内光伏占据全球份额70%以上，芯片产业也需要一个足够长的时间，在国内也将逐步培育出完整的产业链。
如前所述，华为公司的高端实验室其硬件能力也能对供应链企业起到帮助，甚至能帮供应链企业解决一些关键技术难题，华为其实也可以推进国内光刻机产业链沟通与整合，对产业供应商的技术进步的作用可能要大于上海微电子。
对于许多企业而言，光刻机是想都不敢想的事儿，而华为敢想，也敢做，其奋斗的精神与决心是值得许多厂商学习的。
从成功的可能性来看，华为若要亲自下场去做出光刻机，面临的难度很大，这取决于它是否有足够的魄力去带动国内的供应链紧密合作与进步，把关键环节能够做到一定的竞争力，并实现对整个产业生态系统的辅助协调作用，这也要看国内产业链一体化的努力与进展以及技术的发展进程。华为未来有一定的机会，但还有很多不确定性，祝福华为！
